濺射鍍膜是在真空室中，利用氣體在低壓環(huán)境中的放電現(xiàn)象，使其產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材表面，使濺射出來(lái)的原子或者分子沉積在基片上。相比較于傳統(tǒng)的鍍膜方式，磁控濺射鍍膜可以用作靶材的材料很多，基本上所有的金屬材料、合金材料、陶瓷材料上使用。那么關(guān)于磁控濺射技術(shù)鍍膜論文該如何發(fā)表呢?有哪些刊物可以發(fā)表磁控濺射技術(shù)鍍膜論文呢?
 

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